作為國產(chǎn)高端LED設(shè)備制造商的代表，北方微電子憑借其過硬的技術(shù)基礎(chǔ)和本地化的服務(wù)優(yōu)勢，在LED產(chǎn)業(yè)的快速成長中正在取得越來越多的成績。已掌握多種自主核心技術(shù)的北方微電子，僅獲授權(quán)的發(fā)明專利就達(dá)400多項。

專項政策對于北方微電子的支持，僅僅局限在集成電路的設(shè)備領(lǐng)域。作為一個企業(yè)，不但要生存，更要謀求更好的可持續(xù)的發(fā)展。為此，北方微電子決定將PVD設(shè)備技術(shù)應(yīng)用到LED領(lǐng)域的設(shè)備制造中。北方微電子丁培軍總經(jīng)理這樣說，“我們平時使用的手機和平板電腦能夠觸摸，是因為表面覆蓋著一層透明的金屬電極，從而達(dá)到導(dǎo)電的作用。如今，LED光源也需要這樣一些金屬電極，如果有了這些金屬透明電極，出光效率會高很多。北方微電子ITO透明導(dǎo)電膜PVD設(shè)備的開發(fā)，會使未來的LED光源芯片亮度更高，壽命也更長。”

提升出光效率、降低生產(chǎn)消耗是LED芯片生產(chǎn)線關(guān)注焦點，在國產(chǎn)ICP刻蝕設(shè)備獲得巨大市場成功之后，基于集成電路領(lǐng)域先進(jìn)PVD技術(shù)的積累，北方微電子于2012年推出iTopsITOsputter-透明電極濺射沉積設(shè)備，為芯片生產(chǎn)線提供高質(zhì)量的ITO薄膜沉積工藝，提升LED芯片出光效率。

與傳統(tǒng)蒸鍍工藝相比，北方微電子的磁控濺射設(shè)備可以將芯片的輸出光效提升5%-10%，靶材的高利用率更可大幅降低生產(chǎn)中的材料消耗。

該系統(tǒng)兼容2-4英寸藍(lán)寶石、碳化硅等多種材料基片，具備極強的技術(shù)擴展能力。設(shè)備舒適便捷的人機交互界面，優(yōu)異的可靠性、穩(wěn)定性與重復(fù)性完全滿足LED芯片制造商對高質(zhì)量ITO薄膜的生產(chǎn)需求。

該設(shè)備目前已完成了多家主流生產(chǎn)線的工藝驗證，隨著ICP刻蝕機、ITO濺鍍機等眾多國產(chǎn)高端工藝設(shè)備市場應(yīng)用程度的提升，我國LED外延片、芯片制造產(chǎn)業(yè)將會在產(chǎn)品性能、生產(chǎn)成本等方面獲得更多收益。